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加碳脫氧裝置工藝流程圖:



工藝原理:
在碳載型催化劑作用下,氨氣中的殘氧和催化劑本身所提供的碳發生反應,而除去氮氣中的氧。
反應式爲:C+O2=CO2

適用範圍:
適用于高純度氮氣用戶,特別適用于磁性材料、電子行業等對氧、氫有嚴格要求的工藝。
氮气纯度:99.9995%(O2≤5PPm、CO2≤5PPm)   处理气量:10~500 Nm3/h
原料氮氣純度:≥99.9%  露點≤-60℃~70℃
产品氮气出口压力:0 .1~0.6Mpa

主要特點:
1、穩定性好,氧含量在任何時候都能控制在5PPm以下;
2、純度高,氮氣純度在99.9995%時能保持長期穩定。
3、可靠性好,按照IS09002國際標准進行制造。





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加氫脫氧裝置工藝流程圖:



工藝原理:
加氫脫氧裝置以普氮爲原料。經加氫催化除氧、冷卻、吸附幹燥、再經過濾除去氨氣中的雜質、水氣和塵埃,獲得高純氮氣。

除氧原理:2H2+O2→2H2O+O↑

主要特點:
工藝先進------采用國內領先的高效脫氧催化劑。活性好。無需加熱,活化再生。
自動控制------西門子PLC控制,工作再生自動切換可選的質量流量控制器,自動加氫,比值控制。
工作可靠------采用德國寶得氣動閥,日本理化RKC溫控儀。
設計合理------全封閉的設計,結構緊湊、外型美觀、占地面積少。

技術指標:
處理氣量:10~500Nm3/h  原料氮氣純度:≥99.5%.
产品氨气纯度:99 .9995%  O2≤5ppm  H2:微量
露點≤-60℃~70℃  荔枝视频app下载氮氣出口壓力:0.1~0.6Mpa




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